FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR

FUJIFILM Corporation (prezident: Shigehiro Nakajima) s hrdosťou ohlasuje uvedenie nového objektívu FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR ktorý rozšíri ponuku objektívov pre X sériu vo Februári 2015.

Objektív je utesnený voči poveternostným podmienkam a v celom rozsahu (24-84mm ekvivalent ku 35mm) má konštantnú svetelnosť f2.8. Na objektíve je použitá nova technológia ochrannej vrstvy Nano-GI* (Gradient Index) ktorá efektívne zabraňuje vzniku tieňov alebo nežiadúceho závoja Jedná sa o praktický štandardný zoom objektív, ktorý pokrýva široký rozsah použitia - širokouhlý 24mm ekvivalent vhodný pre fotografovanie krajiny, stredný teleobjektív 84mm ekvivalent, ideálny pre portréty..

XF16-55mm využíva lineárny motor, čo umožňuje pohodlné fotografovanie s tichým a rýchlym zaostrovaním. Vďaka utesnenej konštrukcii je objektív odolný nepriazni počasia či prachu a môže pracovať v teplotách až -10°C.

* Technológia nepravidelnej štruktúry nano-povrchu na objektíve aby sa znížila jeho odraznosť.

Hlavné črty

Štandardný zoom-objektív s cieľom maximálnej kvality obrazu

• Aby sa dosiahla najlepšia kvalita obrazu vo svojej triede, objektív sa skladá zo 17 prvkov v 12 skupinách. To zahŕňa tri asférické prvky pre minimálnu sférickú aberáciu a skreslenie, a tri členy z ED skla objektívu k zníženiu laterálnu a axiálnu chromatickú aberáciu, čím sa dosiahne ostrosť od okraja k okraju v celom rozsahu zoomu.
• Použitie Fujifilm technológie HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) na celej ploche povrchu šošovky zabraňuje vzniku tieňov alebo závoja aby bol zachytený ostrý a jasný obraz. Tiež pomocou novo vyvinutej technológie povrchovej úpravy Nano-GI, ktorá mení index lomu medzi sklom a vzduchom, zdvojenie a závoj sú účinne potlačené aj pri diagonálne dopadajúcom svetle.
• Deväť zaoblených lamiel clony pre hladký a kruhový bokeh.
• Kombináciou tohto objektívu s fotoaparátom** s technológiou Lens Modulation Optimiser*** (LMO) je možné dosiahnuť najlepšie výsledky. LMO opraví difrakciu*4 a produkuje obrazy s vysokou ostrosťou v celom obraze a realistický trojrozmerný efekt, a to aj pri nízkej clone.
   

**　 U fotoaparátov “FUJIFILM X-T1”, “FUJIFILM X-T1GS” a “FUJIFILM X-E2” od Januára 2015.

***　 Funkcia pre spracovanie obrazu, ktorá opravuje optické účinky difrakcie.

Rýchle a tiché automatické zaostrovanie vďaka lineárnym motorom

•  Vnútorný zaostrovací systém*5 sa používa pre vysokorýchlostný AF. Znížením hmotnosti objektívu a použitím dvojitého lineárneho motora, sa umožnilo rýchle a tiché zaostrenie. AF je schopný zaostriť už do rýchlosť 0,06 sekundy pri použití tela** s Phase Detection AF. Vďaka tichej uzávierke môžete fotografovať bez povšimnutia okolia.
   

*5 Systém pohybu malej šošovky v strednej a zadnej časti objektívu, bez pohybu veľkých šošoviek tvoriacich prednú časť

Dokonalé utesnenie

• Objektív je utesnený na 14 miestach, vďaka čomu je odolný proti poveternostným vplyvom, proti prachu a teplotám do -10°C takže je ideálny spoločník pre X-T1, ktorý ponúka rovnakú úroveň.

Kvalitné vyhotovenie

• Ostriaci aj clonový prstenec sú kovové, a kov sa používa aj na vonkajšej strane objektívu. Vyhotovenie objektívu je veľmi precízne a bajonet objektívu je vyrobený z mosadze pre zvýšenú pevnosť
• Funkcia AF+MF umožňuje presné ručné ostrenie. Po stlačení tlačidla spúšte pre automatické zaostrovanie na subjekt, je možné jemne manuálne doladiť zaostrenie pomocou zaostrovacieho prstenca.*6
   

*6　Funkcia pre manuálne zaostrenie otáčaním zaostrovacieho krúžku pri stlačení spúšte do polovice v priebehu zámku AF. Aktualizácia firmware je nutné pre telo fotoaparátu, aby bolo možné použiť túto funkciu.

(Iba pre modely: X-Pro1/X-E1/X-E2/X-T1/X-T1GS)

Technická špecifikácia